先进的EUV光刻机,目前仅有ASML能够研发制造,但早就被瓦森纳协定限制出货。
去年底,美日荷又签订了三方协议,限制日本出货23种半导体产品,也限制荷兰出货主流的DUV光刻机等设备。
(相关资料图)
由于ASML一半的营收都来自DUV光刻机,中国又是全球最大的芯片消费市场,荷兰表示虽然美限制先进光刻机出货,但仍将出货部分型号的光刻机。
ASML也表示中国市场至关重要,将分配更多产能给中国厂商,向中国出货更多光刻机。
近日,ASML再出手。
ASML中国总监称,今年ASML中国开放共计200余个岗位,覆盖整体光刻解决方案下的光刻机、计算光刻和量测业务。
包括客户支持工程师、软件开发工程师及职能部门等职位。
最主要的是,荷兰巨头宣布在中建厂。
消息称,荷兰知名半导体巨头KMWE,也是ASML的上游供应商,其计划在中国建设一座新工厂,新公司将生产与马来西亚一样的产品,但专门面向中国市场。
对于在中国建设新工厂,KMWE主管表示,如果中美没有芯片之争,我们可能就不会这么做。言外之意就是避免芯片规则,从而继续向中国出货更多光刻机设备所需的元器件。
因为美从去年10月底,就进一步修改规则,限制相关半导体设备厂商出货,KMWE和贝思半导体等厂商都受到了影响。
ASML和荷兰巨头的消息传来后,就有外媒表示光刻机局面变了。
首先,美想通过三方协议限制ASML出货更多光刻机,但荷兰和ASML都明确表示,将会继续出货部分光刻机。
在这些产品中,包含 1980i型号的DUV光刻机,在多种曝光工艺下,可将芯片制程缩小至7nm,如果不是嫌成本高、工艺复杂,还能够用于5nm工艺。
如今,ASML加大在国内市场布局,结果可想而知。
其次,ASML虽然是光刻机巨头,也是唯一一家能够生产制造EUV光刻机的厂商,但其技术和元器件来自全球数百家供应商。
KMWE就是ASML的供应商之一,其计划在中国建厂,规避政策,从而向中国出货更多光刻机所需要的元器件,这必然促进国产光刻机技术的发展。
要知道,国内光刻机相关技术不断突破,上海微电子28nm精度的光刻机取得了技术验证,中科院突破EUV相关光源技术等。
最后,ASML加速向中国出货,并加大在国内市场布局,也是因为国产光刻机进步太快,导致ASML在国内市场份额从22%降至8%。
三方协议签订后,ASML透露6月底前仍能继续出货主流DUV光刻机等设备,但并没国内厂商购买更多设备的消息。
再结合ASML在国内市场份额下滑,从可以看来,光刻机局面已经变了。
一方面是ASML加速向中国出货,荷兰光刻机元器件巨头计划在中国建厂,其实都是想获得更多市场;
另一方面是国产光刻机技术突破很快,国内厂商纷纷选择国产设备,否则,ASML在国内市场也不会大幅度下滑。
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