美国造出相当于2个硅原子宽度的0.7nm芯片 精度远高于EUV光刻系统

美国造出相当于2个硅原子宽度的0.7nm芯片 精度远高于EUV光刻系统

当ASML的EUV光刻机还在为制造2nm、1nm芯片发愁的时候,美国公司却在另一个先进光刻方向上取得了突破,Zyvex使用电子束光刻技术制造了768皮

2022-09-26 10:58

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